UV技术是光刻机中的关键组成部分，通过使用极紫外光（EUV）光源，它能够实现更小尺寸芯片的制造，与传统的深紫外光相比，EUV光具有更高的分辨率和更低的光线损耗，这使得在半导体制造过程中能够制造出更小、性能更强大的芯片，DUV技术不仅提高了生产效率，还有助于推动集成电路向更高密度、更快速度的方向发展，随着技术的不断进步，DUV技术在微纳加工领域的应用也日益广泛，对现代电子产业的发展起到了重要的推动作用
DUV技术的核心在于使用极紫外光（EUV）光源来照射硅片上的光刻胶，与传统的深紫外（DUV）技术相比，EUV光源具有更长的波长（13.5纳米），这使得它能够以更高的分辨率和精度进行图案化，这种高分辨率的优势使得DUV技术能够在更小的特征尺寸下生产出更高密度、性能更强大的芯片。
DUV技术的发展并非一帆风顺,与成熟的DUV技术相比，EUV技术面临着更多的挑战，包括高昂的研发成本、设备复杂性以及维护成本等，由于EUV光源的波长极短，对材料的耐受性要求极高，因此在制造过程中需要采取特殊的防护措施，以确保设备的正常运行和生产安全。
尽管如此，随着技术的不断进步和成本的逐步降低，EUV技术在半导体制造中的应用前景仍然十分广阔，我们有理由相信，DUV技术将继续推动半导体产业的创新发展，为电子设备的性能提升和功能拓展提供强有力的支持。
